Cihaz Adı / Marka / Model
• Adı: Islak Tezgâh Sistemi (Kimyasal Temizlik / Aşındırma / Fotorezist Geliştirme)
• Marka: ARİAS
• Model: —

Genel Bakış
Bu sistem, litografi odasında bulunan ıslak tezgâhlarda; ışınlanmış fotorezistin geliştirilmesi başta olmak üzere, kimyasal temizlik ve aşındırma (etching) işlemlerini güvenli ve kontrollü şekilde gerçekleştirmek için tasarlanmıştır. İşlem sonrası numuneler sürekli sağlanan DI (deiyonize) su ile durulanır ve azot (N₂) gazı ile kurulanır. Tezgâh üzerinde ayrıca iki adet sıcak yüzey (hot plate) ve bir adet spinner bulunmaktadır.

Kullanım Amacı / Çıktı
• Işınlanmış fotorezistin geliştirilmesi (development)
• Kimyasal temizlik ve yüzey hazırlığı işlemleri
• Kimyasal aşındırma (etching) süreçlerinin yürütülmesi
• DI su ile durulama ve N₂ ile kurutma ile kontaminasyonun azaltılması
• Hot plate ile ısıl işlem (soft bake / hard bake vb. süreçlere destek)
• Spinner ile kaplama/işlem adımlarına destek (ör. rezist uygulama süreçleri kapsamında)

Uygulama Alanları
• Fotolitografi süreçleri (rezist geliştirme ve yüzey hazırlığı)
• Mikro/nanofabrikasyon öncesi ve sonrası kimyasal temizlik adımları
• Aşındırma işlemleri ile yüzey modifikasyonu ve proses hazırlığı
• Cleanroom süreçlerinde wafer/numune hazırlama iş akışları

Öne Çıkanlar
• Sürekli DI su durulama ve N₂ ile kurutma ile temiz proses akışı
• Entegre 2 adet hot plate ile ısıl proses adımlarına destek
• Entegre spinner ile litografi iş akışlarına uyumlu kullanım

Teknik Özellikler

İletişim / Hizmet Talebi
Hizmet talebi için: [email protected] adresine e-posta gönderebilirsiniz. (Numune türü, amaç ve tarih aralığını belirtmeniz rica olunur.)